Remoção de fósforo contido em silício por tratamento a vácuo

Compartilhe:
Resumo:

A demanda por energia fotovoltaica vem aumentando a razão de mais de 20% ao ano no mercado internacional na última década devido aos programas de diversificação de matriz energética. Este trabalho visa investigar a remoção de fósforo a vácuo de silício grau metalúrgico (SiGM) (98,5% a 99% de Si) para se obter o silício grau solar (SiGS) (99,999% a 99,99999% de Si). Foram realizados experimentos em forno de indução a vácuo, variando parâmetros como temperatura, tempo e relação área exposta a vácuo/volume de silício. Os resultados de análise química foram obtidos por plasma acoplado indutivamente (ICP) e avaliados com base em aspectos termodinâmicos e cinéticos da reação de vaporização do fósforo no silício. Obteve-se refino de 33 para cerca de 1,5 pp, de P em três horas, concluindo-se que o refino por este processo é tecnicamente viável.


Referência:
LOTTO, André Alexandrino; FERREIRA NETO, João Batista; MOURÃO, Marcelo Breda. Remoção de fósforo contido em silício por tratamento a vácuo. In: CONGREESO ANUAL DA ABM, 68., 2013, Belo Horizonte. Anais… 12 p.

INSCREVA-se em nossa newsletter

Receba nossas novidades em seu e-mail.

SUBSCRIBE to our newsletter

Receive our news in your email.

Pular para o conteúdo