Resumo:
Nos últimos anos, devido às políticas de preservação do meio ambiente e de segurança do trabalho as indústrias têm mostrado interesse em substituir os banhos de cobre alcalino a base de cianeto, por banhos a base de complexantes atóxicos. Uma revisão bibliográfica detalhada mostrou que os trabalhos publicados referentes aos novos banhos de cobre são, na sua maioria, patentes, tendo pouca ou nenhuma abordagem focada nos mecanismos de deposição. Assim sendo, resolveu-se estudar com detalhe um dos complexantes atóxicos citado nas patentes publicadas, tendo sido selecionado o ácido 1-hidroxietano-1, 1-difosfônico, conhecido pela sigla HEDP. O presente trabalho apresentará os resultados obtidos no estudo do mecanismo de deposição do cobre a partir do banho toque alcalino formulado com o ácido HEDP sem aditivos, usando a técnica eletroquímica de voltametria cíclica. Os resultados mostraram que a deposição ocorre pela redução direta de íons cúpricos, sem a formação de intermediários de íons cuprosos.
Referência:
PANOSSIAN, Zehbour; VARGAS, Cristiane; OLIVEIRA, Vera Lúcia Bitar Horta de. Estudo do mecanismo de deposição do cobre a partir do HEDP por meio da técnica de voltametria cíclica. In: CONFERÊNCIA SOBRE TECNOLOGIA DE EQUIPAMENTOS, COTEQ, 10., 2009, Salvador. Anais… São Paulo: ABENDE, ABRACO, IBP, 2009. 15 p.
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Nos últimos anos, devido às políticas de preservação do meio ambiente e de segurança do trabalho as indústrias têm mostrado interesse em substituir os banhos de cobre alcalino a base de cianeto, por banhos a base de complexantes atóxicos. Uma revisão bibliográfica detalhada mostrou que os trabalhos publicados referentes aos novos banhos de cobre são, na sua maioria, patentes, tendo pouca ou nenhuma abordagem focada nos mecanismos de deposição. Assim sendo, resolveu-se estudar com detalhe um dos complexantes atóxicos citado nas patentes publicadas, tendo sido selecionado o ácido 1-hidroxietano-1, 1-difosfônico, conhecido pela sigla HEDP. O presente trabalho apresentará os resultados obtidos no estudo do mecanismo de deposição do cobre a partir do banho toque alcalino formulado com o ácido HEDP sem aditivos, usando a técnica eletroquímica de voltametria cíclica. Os resultados mostraram que a deposição ocorre pela redução direta de íons cúpricos, sem a formação de intermediários de íons cuprosos.
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PANOSSIAN, Zehbour; VARGAS, Cristiane; OLIVEIRA, Vera Lúcia Bitar Horta de. Estudo do mecanismo de deposição do cobre a partir do HEDP por meio da técnica de voltametria cíclica. In: CONFERÊNCIA SOBRE TECNOLOGIA DE EQUIPAMENTOS, COTEQ, 10., 2009, Salvador. Anais… São Paulo: ABENDE, ABRACO, IBP, 2009. 15 p.
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